近日,美國應用材料公司宣布推出AppliedCentrisAdvantEdgeMesa刻蝕系統(tǒng)，它是面向世界上最先進的存儲和邏輯芯片批量生產(chǎn)而推出的智能化程度最高、速度最快的硅刻蝕系統(tǒng)，試圖開啟芯片制造的新紀元。
據(jù)介紹,其結(jié)構(gòu)緊湊的Centris系統(tǒng)以前所未有的方式裝配了8個反應腔，即6個刻蝕反應腔和2個刻蝕后清潔腔，每小時可處理多達180片硅片，最多可將單片硅片的制造成本降低30%。擁有知識產(chǎn)權(quán)的系統(tǒng)智能軟件確保每個反應腔的每個工藝流程精確匹配，滿足了實現(xiàn)未來高度復雜芯片高良率生產(chǎn)的關(guān)鍵要求。
“全新Centris主機平臺的推出將徹底轉(zhuǎn)變半導體行業(yè)增長最快的硅刻蝕領(lǐng)域格局。先進微芯片極其微小的集成電路需要越來越多的關(guān)鍵刻蝕步驟，”應用材料公司副總裁兼刻蝕事業(yè)部總經(jīng)理EllieYieh表示，“全新Centris平臺和世界一流的AdvantEdgeMesa技術(shù)的結(jié)合是一個很好的典范，體現(xiàn)了我們以客戶為導向的創(chuàng)新產(chǎn)品如何幫助公司在刻蝕市場的多個應用領(lǐng)域取得快速發(fā)展�！�
業(yè)內(nèi)專家指出,該刻蝕系統(tǒng)同樣為綠色工藝開辟了一條新的道路。和市場上現(xiàn)有的硅刻蝕系統(tǒng)相比，該系統(tǒng)每年減少的耗電量、耗水量和耗氣量相當于減排60萬磅二氧化碳,可幫助芯片廠商降低運營成本，支持他們可持續(xù)的生產(chǎn)規(guī)劃。(中國工業(yè)報) |
